国家标准 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
起草单位：中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。
起草人：刘芬 、王海 、赵良仲 、宋小平 、赵志娟 、邱丽美 。
GB/T 25188─2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
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GB/T 25188-2010标准状态
- 发布于：2010-09-26
- 实施于：2011-08-01
- *非实时更新以实际为准