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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

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YS/T 718-2009标准状态

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平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶简介

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

起草单位：利达光电股份有限公司

起草人：李智超、杨太礼 等

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