本文件适用于以高纯钴、铬、铂、硼为原料,经真空熔铸或粉末冶金烧结等工艺制得的钴铬铂硼合金溅射靶材,产品主要用于机械硬盘磁存储介质的磁记录层材料。
YS/T 1555-2022 铂钴铬硼合金溅射靶材
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