JC/T 995-2006 低比表面积高烧结活性氧化锆粉体
起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所、江西微亿高科技材料有限公司
起草人：施剑林、蒋丹宇 等
JC/T 995-2006 低比表面积高烧结活性氧化锆粉体
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JC/T 995-2006标准状态
- 发布于：2006-03-07
- 实施于：2006-08-01
- *非实时更新以实际为准
JC/T 995-2006 低比表面积高烧结活性氧化锆粉体
起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所、江西微亿高科技材料有限公司
起草人：施剑林、蒋丹宇 等