本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司等
起草人：姚力军、王学泽、丁照崇等
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
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YS/T 1025-2015标准状态
- 发布于：2015-04-30
- 实施于：2015-10-01
- *非实时更新以实际为准
