YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
起草单位：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
起草人：王学泽、宋佳 等
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
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YS/T 819-2012标准状态
- 发布于：2012-11-07
- 实施于：2013-03-01
- *非实时更新以实际为准
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起草单位：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
起草人：王学泽、宋佳 等