国家标准 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
GB/T 14141-2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
起草单位：宁波立立电子股份有限公司、南京国盛电子有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心。
起草人：李慎重 、许峰 、刘培东 、谌攀 、马林宝 、何秀坤 。
GB/T 14141─2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
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GB/T 14141-2009标准状态
- 发布于：2009-10-30
- 实施于：2010-06-01
- *非实时更新以实际为准